<menuitem id="qecsf"></menuitem>

<strong id="qecsf"><acronym id="qecsf"></acronym></strong>

<td id="qecsf"><font id="qecsf"><object id="qecsf"></object></font></td>
<dfn id="qecsf"></dfn>
    從PCB制造到組裝一站式服務(wù)

    堿性蝕刻技術(shù)的過(guò)程及工藝原理

    2013
    03/07
    本篇文章來(lái)自
    捷多邦
      蝕刻是利用干膜、濕膜、錫層、鎳金屬層的抗蝕性能來(lái)保護(hù)有效圖形部分,通過(guò)堿性氯化氨銅溶液蝕去無(wú)抗蝕層保護(hù)的銅面,然后再根據(jù)板的種類以不同處理方法退除抗蝕層,得到所需的圖形線路。
      1內(nèi)層工藝流程
      蝕刻→子液清洗→水洗→退膜→水洗→防氧化→水洗→烘干
      2銅錫板工藝流程
      退膜→水洗→去膜水洗→中壓水洗→吸干→蝕刻→子液清洗→水洗→吸干→退錫
      →水洗→烘干→接板
      3鎳金板工藝流程
      退膜→水洗→去膜水洗→中壓水洗→吸干→蝕刻→子液清洗→水洗→吸干→酸洗
      →水洗→烘干→接板
      4簡(jiǎn)單工藝原理
      蝕銅反應(yīng):在蝕刻過(guò)程中,板面上的銅被蝕刻液中的[Cu(NH3)4]2+絡(luò)離子氧化,其反應(yīng)如下:
      Cu(NH3)4Cl2+Cu→2Cu(NH3)2Cl
      再生反應(yīng):(1)所生成的[Cu(NH3)2]1+為Cu1+的絡(luò)離子,不具有蝕刻能力,在有過(guò)量NH3和Cl-的情況下,能很快被空氣中O2氧化,生成具有蝕刻能力的[Cu(NH3)4]2+絡(luò)離子,完成再生反應(yīng)。
      2Cu(NH3)2Cl+2 NH4Cl+2 NH3+1/2 O2→2 Cu(NH3)4Cl2+H2O
    the end